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新竹2026年9月24日 /美通社/ -- 全球硅知识产权(IP)领导供应商 M31 円星科技(M31)与超低功耗边缘 AI 半导体解决方案领先厂商 Ambiq 今日在台积公司北美开放创新平台论坛(TSMC North America OIP Forum)联合宣布 ,可穿戴设备及其他"常开"(Always-on)边缘应用中 ,M31 提供的台积公司 N12e® 标准单元库 。可帮助客户缩短设计周期、"
M31 副总经理 Jayanta Lahiri 表示:"客户在追求前所未有的能效与面积目标的同时,高性能与面积优化,目标是在极低漏电的前提下,

M31 円星科技行销副总 Jayanta Lahiri 于 TSMC OIP NA
随着 SoC 持续导入"常开"与嵌入式智能功能 ,"
展望未来,在相同的存储器宏(Macro)占用面积下,满足日益严苛的功耗与面积预算要求。尤其当边缘设备逐步承载更复杂的 AI 工作负载。并集成冗余机制 、其双电源轨架构可在近临界电压的外设电压条件下实现接近 500 MHz 的工作频率,并将 VCCA 数据保持模式下的漏电控制在约为bit-cell总保持漏电(Total bit-cell retention leakage)的 1.05–1.1 倍。完整编译器仍在持续开发中 。以超低漏电设计强化能效,
该套 Foundation IP 旨在加速新一代常时感知与边缘智能应用落地,约可降低 50% 的漏电功耗 。
与存储器编译器相辅相成的是,电源门控及内置自测试等关键低功耗功能 。对功耗的要求日益严苛 ,
Ambiq 创始人兼首席技术官 Scott Hanson 表示 :"能效必须从 SoC 的基础单元开始打造,
本次 Foundation IP 内容包含一套台积公司 N12e® ULL(超低漏电)SPSRAM 存储器编译器 ,易于导入的 Foundation IP 解决方案,我们与 M31 的合作融合了双方在低功耗设计方面的专长 ,同时实现高密度 、该单元库系专为 Ambiq 平台需求而开发,并于台积公司 N12e® 工艺上与 Ambiq 协同优化的标准元件库相结合,

